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Patentgesetz (PatG), Gebrauchsmustergesetz: PatG, GebrMG, Kommentar

Patentgesetz (PatG), Gebrauchsmustergesetz: PatG, GebrMG, Kommentar
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Zum Werk§Das Patentgesetz und das Gebrauchsmustergesetz stehen im Mittelpunkt des Gewerblichen Rechtsschutzes und sind von großer Bedeutung für alle Patentanwälte, mit Patentstreitigkeiten befassten Rechtsanwälte sowie Unternehmen, die ihre Erfindungen schützen wollen oder gegen Schutzanmaßungen Dritter vorgehen müssen.§Der Praxiskommentar verbindet das Patentrecht mit dem eng verwandten Gebrauchsmusterrecht. Vorrangiger Bezugspunkt der Erläuterungen ist die Rechtsprechung sowohl der Instanzgerichte, des BPatG und des BGH als auch der Beschwerdekammern des Deutschen Patent- und Markenamtes und des Europäischen Patentamts. Eine Stärke des Kommentars ist, dass auch das Marken- und Geschmacksmusterrecht, das Recht des unlauteren Wettbewerbs und das Urheberrecht in die Erläuterungen einbezogen sind.§Vorteile auf einen Blick§- prägnant und praxisorientiert§- rechtsprechungsorientiert§- wichtige Nebenvorschriften im Textanhang§Zielgruppe§Für Rechts- und Patentanwälte, Unternehmen, Gerichte, Referendare, Assessoren und sonstige Auszubildende in Rechts- und Patentanwaltskanzleien sowie in Behörden.
Autor:
Nakladatel: Beck Juristischer Verlag
Rok vydání: 2015
Jazyk : Němčina
Vazba: Hardback
Počet stran: 1640
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